ASML: China boekt grote voortgang met EUV-technologie - De gevolgen en meer
Wil je alle artikelen kunnen lezen en elke podcast beluisteren? Neem dan een abonnement en krijg toegang tot alle artikelen en de database met duizenden berichten.
Volgens het South China Morning Post (SCMP) heeft een Chinees onderzoeksteam, geleid door voormalig ASML-topwetenschapper Lin Nan, een belangrijke doorbraak bereikt.
Ze hebben een extreme ultraviolet (EUV) lichtbronplatform ontwikkeld dat opereert met prestaties op internationaal concurrerend niveau. Daarbij wordt gebruikgemaakt van een solid-state laser-aangedreven aanpak, waarmee China een stap dichterbij komt om zelfstandig geavanceerde chips te produceren.
Gevolgen ASML en meer
Disclaimer Aan de door ons opgestelde informatie kan op geen enkele wijze rechten worden ontleend. Alle door ons verstrekte informatie en analyses zijn geheel vrijblijvend. Alle consequenties van het op welke wijze dan ook toepassen van de informatie blijven volledig voor uw eigen rekening.
Wij aanvaarden geen aansprakelijkheid voor de mogelijke gevolgen of schade die zouden kunnen voortvloeien uit het gebruik van de door ons gepubliceerde informatie. U bent zelf eindverantwoordelijk voor de beslissingen die u neemt met betrekking tot uw beleggingen.
